装置概要

装置ID

366

メーカー

サムコ株式会社

形式

AD-800LP

設置場所

黒髪南地区キャンパス SOIL棟5階クリーンルーム

概要

本装置は研究開発用ALD（原子層堆積装置）です。本装置は反応室、ロードロック室、ガス供給系、排気系、制御系により構成されています。本装置はロードロック式であり、反応室に有機金属原料および酸化剤を交互に供給し、表面反応のみを利用して成膜を実施することで高い膜厚制御性を実現しています。原料を数百msec 以下のパルス供給をすることで原料のロスを減らし、成膜効率を向上させています。

管理者

半導体プロセスWT

TEL

096-342-3518

メール

yoshioka@tech.kumamoto-u.ac.jp